商品の詳細:
お支払配送条件:
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最高。温度: | 1200C | 働く温度: | 1100Cより多く |
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暖房率: | 0-20 ' C | 温度の均等性: | ±5℃ |
管の直径: | 顧客のサイズ | 発熱体: | Moの抵抗ワイヤー |
温度調整: | SCRの電力制御によるPIDの自動制御 | ||
ハイライト: | 1000KW化学気相堆積機械,ISOのpecvd機械,1000KW血しょうは化学気相堆積システムを高めた |
血しょうによって高められる化学気相堆積PECVDシステム機械
マイクロウェーブまたは無線周波数の原子含んでいるガスのイオン化によるPECVDシステムは、期待された薄膜を沈殿させ、形作るために容易に反応する活動的な血しょうを局部的に作成する。それはZnOのnanostructuresの陶磁器の基質の伝導性テスト、管理された成長、陶磁器のコンデンサー(MLCC)のatomosphereの焼結の実験、等に塗る炭化ケイ素のようなPECVDプロセスのために適している。
プロダクト表示:
パッキング及び出荷:
安全な交通機関を保障するために中満ちているpolyfoamが付いている木箱。
小包は海によって、顧客の要求ごとの明白、等による空気によって、送ることができる。
コンタクトパーソン: Mr. John Fang
電話番号: 86-13837786702